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ALD原子层沉积技术及应用
ALD技术应用简介
ALD技术应用简介

       原子层沉积技术由于其沉积参数的高度可控性(厚度、成份和结构),优异的沉积均匀性和一致性使得其在微纳电子和纳米材料等领域具有广泛的应用潜力。

       而且随着科技的发展在不远的将来将会发现其越来越多的应用。根据该技术的反应原理特征,各类不同的材料都可以沉积出来。已经沉积的材料包括金属、氧化物、碳(氮、硫、硅)化物、各类半导体材料和超导材料等。

热电.jpg

太阳能电池应用

太阳能电池.jpg



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